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日本analyzer氧化鋯型氧氣濃度計原理

發布時間： 2021-04-06　　點擊次數： 1503次

我們的每種產品都有其自己的特性，但是由于其設計，TB系列的應用范圍非常廣泛，從高純氣體中的微量氧氣到真空氣氛以及燃燒廢氣中的氧氣測量。
除了內置N 2 PSA和O 2 PSA內置產品外，我們還提供除常規氧氣測量外的功能產品，例如預混合氣體分析儀，高溫氣體濕度計和氧氣泵，以滿足用戶的需求。需要，我正在做到。

氧化鋯陶瓷由于在電池的內表面和外表面上的氧分壓不同而成為一個產生電壓（電池電壓）的氧濃縮電池，當氧氣被紅色加熱時，氧離子很容易在晶體結構中移動。
通過使電解池內部的氣氛與外部的樣品氣體接觸，可以基于氣氛中的氧濃度產生電壓。這可以由以下公式表示。
E是由氧化鋯陶瓷產生的電壓（mV），T是電池的溫度，并且大氣中的氧氣濃度是恒定的，因此，如果電池溫度恒定，則電池電壓也是恒定的。
樣品氣體中的氧氣濃度可以通過反算來獲知。
因此，當檢測池的兩側都處于大氣中時，池電壓理論上變為0mV，并且隨著樣品氣體的氧氣濃度相對于大氣降低，池電壓升高。
金屬的熱處理過程或還原過程是對陶瓷燒結的還原氣氛，傳感器H2氣氛中為TB，H2 +惰性氣體，CO / CO，2大氣中2 H2-1 / 2 O，2 H2O，CO + 1/2 O 2 ⇔CO 2 1×10 ^ -20 ATMO引起從解離2以測量氧分壓的下面，⇔還原氧化的判斷中，可以執行氣氛管理。
（“ DG-R”系列適用于高精度還原氣氛測量。）
該儀器測量樣氣的氧氣分壓。
因此，即使氣體中的氧濃度相同，如果壓力變化，也會根據該壓力產生氧分壓的電動勢。
例如，如果將大氣（約21％O 2）減壓至1 Torr，則大氣壓為760 Torr ，因此可以獲得21 x 1/760 = 0.027％O 2的指令。
TB-IIF在CVD排氣管線中的記錄為1×10 ^ -3托，而TB-IIV在直接安裝真空爐中的記錄為1×10 ^ -6托。
CO + H2％可以通過在m值（空燃比）為1的燃燒條件下從CO + H2 / CO 2 + H2O解離生成的氧分壓測量為10 ^ -10或更小來測量。或更少的直接燃燒氣氛爐中。
由于1％（CO + H2）+ 0.5％O 2 = 1％（CO + H2O），因此1％（CO + H2）可用-0.5％O 2代替，并以-O 2％的范圍表示。
另外，如果目標是m值為1的等效燃燒，我們可以以零點為中心制造-02％到0到+ 02％的范圍
當將氧化鋯圓盤加熱至恒定溫度并向鉑電極施加恒定電壓時，由于泵浦作用，以氧離子為載體的電流流過，帽中的氧被釋放，并且與氧平衡的電流會從小孔中擴散出來，并會流動。（請參閱下面的圖1和圖2）
與該氧氣濃度變化相對應的電流變化被放大，并通過儀表中的折線軟件線性化以顯示氧氣濃度。

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