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X射線熒光測量儀 XDV ® -μ LD
更新日期：2024-05-14
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廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
生產(chǎn)地址：
簡要描述：
X射線熒光測量儀 XDV ® -μ LDFISCHERSCOPE ® X 射線 XDV ® -μ LD由于與樣品的測量距離約為 12 mm，因此它是一種高性能的熒光 X 射線膜厚測量儀，適用于材料分析和膜厚測量，適用于測量安裝有臺階的基板。
X射線熒光測量儀 XDV ® -μ LD
X射線熒光測量儀 XDV ® -μ LD
日本進口fischerX射線熒光測量儀 XDV ® -μ LD
特征
- 與樣品的測量距離長的長距離型
- 適用于測量帶臺階的安裝板
- 用于顯微測量的微聚焦管和多毛細管透鏡
- 使用可編程 XY 平臺進行自動測量
主要規(guī)格
它是一種使用多毛細管光學元件的熒光 X 射線測量設備。
此外，由于是長距離型，測量距離約為 12 mm，因此可以在安裝有臺階的板上無損地測量膜厚和分析材料。
| 模型 | XDV-μLD |
|---|---|
| 測量元件范圍 | 小號 (16) - 小號 (92) |
| X射線探測器 | 硅漂移探測器 (SDD) |
| X射線管 | 微調(diào)焦管 |
| 初級過濾器 | 4種 |
| X射線光學 | 多毛細管 |
| 測量光斑尺寸 | 約Φ80µm |
| 測量距離（與樣品的距離） | 約12mm |
| 車身尺寸 | 660 x 835 x 720mm（寬 x 深 x 高） |
| 能量消耗 | 高達 120W |
主要應用
- 印刷電路板、連接器等形狀復雜的小零件和結構零件的測量
- 薄膜厚度測量（示例）Au ≤0.1 µm
- 復雜多層涂層的成分分析和膜厚測量
- 可以安裝可選的大型板和柔性印刷線路板的擴展板
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