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    日本advance riko桌面型快速退火爐 紅外光譜儀

    日本advance riko桌面型快速退火爐 紅外光譜儀

    更新日期:2024-05-16

    訪問(wèn)量:1724

    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

    生產(chǎn)地址:

    簡(jiǎn)要描述:
    日本advance riko桌面型快速退火爐MILA-5000 系列
    MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐,可以進(jìn)行快速升降溫,潔凈加熱。MILA-5000系列將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經(jīng)濟(jì)型退火爐,可以在不同的氣氛下進(jìn)行加熱。可通過(guò)USB連接電腦并進(jìn)行監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。

    日本advance riko桌面型快速退火爐MILA-5000 系列

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    MILA-5000系列
    MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐,可以進(jìn)行快速升降溫,潔凈加熱。MILA-5000系列將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經(jīng)濟(jì)型退火爐,可以在不同的氣氛下進(jìn)行加熱。可通過(guò)USB連接電腦并進(jìn)行監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。

    MILA-5000UHV
    MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N(高溫型)基礎(chǔ)上升級(jí)的一款高真空型退火爐。該系列繼承了MILA-5000系列的的特點(diǎn):快速升降溫,潔凈加熱,可在不同的氣氛下加熱。同樣可以通過(guò)USB連接PC進(jìn)行溫度監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。

    用途

    MILA-5000系列

    • 鐵電薄膜的晶體退火。

    • 離子注入后的擴(kuò)散退火,氧化膜沉積退火。

    • 硅和復(fù)合晶片的燒結(jié),合金化處理。

    • 玻璃基板溫度均勻退火。

    • 熱循環(huán),熱沖擊,熱疲勞測(cè)試。

    • 程序升溫解吸測(cè)試,催化效果測(cè)試。


    MILA-5000UHV

    • 在超高真空中進(jìn)行熱處理。

    • 程序升溫解吸氣體分析爐。


    特長(zhǎng)

    MILA-5000系列

    • 1. 50℃/S的快速升溫.

    • 2. 可在真空,惰性氣體,流動(dòng)氣氛,空氣的氣氛下進(jìn)行加熱

    • 3. 精確的溫度控制

    • 4. 緊湊,桌面型設(shè)計(jì)

    • 5. 通過(guò)USB連接電腦與爐體,可進(jìn)行溫控程序的編輯與傳輸

    • 加熱過(guò)程中可通過(guò)電腦監(jiān)測(cè)加熱數(shù)據(jù)


    MILA-5000UHV

    • 可進(jìn)行超高真空的熱處理

    • 搭配分子泵,真空度可達(dá)到10-5Pa

    • 繼承了MILA-5000-P-N的全部特點(diǎn)

    • 緊湊,桌面型設(shè)計(jì)

    • 通過(guò)USB連接電腦與爐體,可進(jìn)行溫控程序的編輯與傳輸

    • 加熱過(guò)程中可通過(guò)電腦監(jiān)測(cè)加熱數(shù)據(jù)


    仕様

    MILA-5000系列

    型號(hào)MILA-5000-P-N
    (高溫型)
    MILA-5000-P-F
    (均勻加熱型)
    控溫范圍RT ~ 1200 °CRT ~ 800 °C
    樣品尺寸□ 20 × t 2 (mm)
    加熱氣氛空氣,靜態(tài)氣氛,流動(dòng)氣氛,真空

    * 真空泵可選
    * 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率,吸收率,熱容和材料而變化。

    高真空型

    型號(hào)MILA-5000UHV
    控溫范圍RT ~ 1200 °C
    樣品尺寸□ 20 × t 2 (mm)
    加熱氣氛空氣,靜態(tài)氣氛,流動(dòng)氣氛,真空

    * 真空泵可選
    * 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率,吸收率,熱容和材料而變化。


    日本advance riko桌面型快速退火爐MILA-5000 系列



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